|
|
Mer. 28/06/2017 14:00 Salle des Séminaires, Bâtiment 21, Etage 4 Séminaire
LITWIN-STASZEWSKA Elisabeth (L’Institut des Hautes Pression de l’Académie des Sciences de Pologne)
E.Litwin-Staszewska, R.Piotrzkowski
États localisés dans de Nitrure de Galium dopé au Magnésium Croissance sous haute pression d’Azote (HPN) (Physique Appliquée)
Sommaire:
L’analyse présentée est basée sur les mesures des propriétés électriques de GaN en fonction de température.
Le prix Nobel de physique 2014 a été décerné pour l’invention de la diode électroluminescente (LED) bleue. La clé de la réussite de ce composant est la maitrise du dopage type p du GaN. Jusqu’à présent, le magnésium (Mg) reste la seule source de dopage de type p dans ce matériau. Or pour qu’il soit électriquement actif un procédé d’activation est nécessaire : soit par activation thermique, soit par irradiation avec des électrons. Il est admis que l’activation du Mg passe par à une décomposition des complexes Mg-H. Pourtant, de nombreuses questions restent encore ouvertes concernant le mécanisme de dopage : - rôle de l’hydrogène dans le mécanisme de croissance des matériaux de type p - rôle de la direction de croissance sur le niveau de dopage - rôle de l’oxygène dans le mécanisme d’activation. Deux techniques de croissance de GaN dopé Mg sous haute pression d’azote conduisent à différents résultats : - croissance spontanée (direction latérale) conduisant aux matériaux de type p activés dans les même conditions que les couches MOCVD - croissance forcée (suivant l’axe C) conduisant aux matériaux fortement résistifs de type p ou type n. Le modèle proposé d’états localisés de magnésium dans GaN stipule que l’activation du dopant conduit à l’apparition de trois niveaux distincts : - un donneur peu profond (30 meV) - un accepteur peu profond (150 meV) - un accepteur profond (1 eV) Pour plus d'informations, merci de contacter Konczewicz L.
|